高效能有機酸配方，專用於電子與半導體製程中的氧化物去除與關鍵表面處理，提升後續鍍膜與焊接品質。
雙氧水（過氧化氫）在半導體製程中有重要的應用。它通常用於濕式化學清洗過程，幫助去除晶圓表面的有機污染物和金屬殘留。
定影劑是一種化學溶液，能有效固定影像，使其長期保存。
顯影清洗劑在半導體製程中有應用。它主要用於清潔和維護顯影槽，確保製程的穩定性和精確性。
乙醇在半導體製程中有一定的應用。它主要用作清潔劑和溶劑，用於清潔晶圓表面和去除製程中的污染物。
專為表面黏著技術（SMT）與半導體製程開發的高效電子級清潔溶劑，有效去除助焊劑殘留、油脂與微細污染物，確保關鍵製程潔淨與可靠性。
